研究目的
研究外磁场对脉冲激光沉积法制备的类金刚石碳膜微观结构的影响，重点考察其光学特性、表面形貌及原子键合情况。
研究成果
外部磁场显著影响脉冲激光沉积法制备的类金刚石薄膜微观结构，导致其光学性能、表面形貌发生变化，并提高sp3键含量。该磁场能约束带电粒子的表面扩散，从而提升薄膜致密度与光学性能。
研究不足
该研究聚焦于外部磁场对脉冲激光沉积法制备的类金刚石薄膜微观结构的影响。该研究未探讨不同磁场强度对薄膜性能的影响，这可能是未来研究的方向。
1：实验设计与方法选择：
在外加磁场中采用脉冲激光沉积（PLD）法制备DLC薄膜，沉积过程使用KrF准分子激光器。
2：样品选择与数据来源：
选用高取向热解石墨（HOPG）靶材，抛光硅片作为薄膜沉积衬底。
3：实验设备与材料清单：
KrF准分子激光器（相干公司Compex 205）、特斯拉计（TD8620）、椭偏仪（J A Woollam公司V-VASE）、原子力显微镜（VEECO多模8型）、拉曼显微镜（Horiba HR 800）、纳米硬度计（安捷伦G200纳米压痕仪）。
4：5）、特斯拉计（TD8620）、椭偏仪（J A Woollam公司V-VASE）、原子力显微镜（VEECO多模8型）、拉曼显微镜（Horiba HR 800）、纳米硬度计（安捷伦G200纳米压痕仪）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：分别在外加磁场和无磁场条件下沉积薄膜，并通过多种技术表征薄膜特性。
5：数据分析方法：
分别采用椭偏仪、原子力显微镜和拉曼光谱分析光学常数、表面形貌及原子键合情况。
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Ellipsometry
V-VASE
J A Woollam Co. Inc.
Used to measure the optical constants of the DLC films.
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Atomic force microscope
VEECO Multimode 8
VEECO
Used to measure the surface morphology of the DLC films.
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Nano Indenter
G200
Agilent
Used to measure the nano-hardnesses of the DLC films.
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KrF excimer laser
Compex 205
Coherent Inc.
Used for the pulsed laser deposition (PLD) process to deposit DLC films.
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Tesla meter
TD8620
Used to measure the magnetic strength near the substrate.
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Raman microscope
HR 800
Horiba
Used to carry out Raman measurements of the DLC films.
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