研究目的
研究温度场对La2Ti2O7薄膜的微观结构、光学性能及激光损伤响应的影响。
研究成果
La2Ti2O7薄膜的光学特性和激光损伤阈值受温度场显著影响，其中Ti价态变化、氧空位形成及结晶过程起关键作用。当温度超过900°C时，该薄膜的激光损伤阈值急剧下降。
研究不足
该研究仅限于温度场在1000°C以内对电子束蒸发制备的La2Ti2O7薄膜的影响。这些发现可能不直接适用于其他方法制备的薄膜或其他材料。
1：实验设计与方法选择：
采用电子束蒸发法在硅和熔融石英衬底上制备La2Ti2O7薄膜，随后通过不同温度的快速热退火模拟温度场，利用XPS、XRD、椭偏仪和激光损伤测试研究其结构、光学常数及激光损伤响应特性。
2：样品选择与数据来源：
以破碎的La2Ti2O7为原料，在清洗后的Si(100)和熔融石英衬底上沉积薄膜。
3：实验设备与材料清单：
电子束蒸发系统（型号ZZS500-1/G）、光谱椭偏仪（J AWoollam M-2000UI）、X射线衍射仪（XRD，X’Pert PRO MPD）、分光光度计（日立U-3501）、X射线光电子能谱仪（XPS，PHI5400）、激光损伤阈值测试仪。
4：1）、X射线光电子能谱仪（XPS，PHI5400）、激光损伤阈值测试仪。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：在受控条件下沉积薄膜，经多温度退火处理后，对其结构、光学及激光损伤特性进行表征。
5：数据分析方法：
采用XPS峰分离模拟分析法测定薄膜中Ti化学态比例。
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spectroscopic ellipsometry
J AWoollam M-2000UI
American
Measurement of refractive index, extinction coefficient, and physical thickness of the films
-
electron beam evaporation system
ZZS500-1/G
Chengdu Nan-guang Vacuum Technology Co. Ltd, China
Deposition of La2Ti2O7 thin films
-
X-ray diffraction
X’Pert PRO MPD
Determination of the structure of the samples
-
spectrophotometer
HitachiU-3501
Japan
Measurement of the transmission spectra of the films
-
x-ray photoelectron spectroscopy
PHI5400
Investigation of the elemental composition and the element’s chemical states of the La2Ti2O7 film
-
laser damage threshold test instrument
Measurement of LIDT of La2Ti2O7 films
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