研究目的
利用光可重构偶氮苯特性和光干涉光刻（LIL）工艺，在偶氮聚合物薄膜上制备准晶表面浮雕光栅（SRG）的研究。
研究成果
该研究成功展示了利用斐波那契启发的激光干涉光刻复用技术制备类准晶体表面浮雕光栅图案。研究强调了旋转序列对偶氮聚合物薄膜表面形貌的决定性作用，为先进光学元件和表面图案化应用提供了潜在可能。
研究不足
该研究承认，偶氮聚合物光触发流体行为的潜在机制尚未得到充分解释，这表明对相关基本过程的理解存在局限性。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用双光束耦合光干涉光刻（LIL）技术在偶氮聚合物薄膜上刻写多种形貌的光栅图案。通过将LIL与不同旋转序列复用，实现了类准晶结构的表面浮雕光栅（SRGs）。
2：样品选择与数据来源：
选用光响应性偶氮苯聚合物聚分散红1丙烯酸酯（PDR1A），样品通过旋涂法将PDR1A制备于玻璃基底上。
3：实验设备与材料清单：
设备包括二极管泵浦固态（DPSS）绿光激光器、偏振分束器（PBS）、偏振片（POL）、半波片（HWP）和原子力显微镜（AFM）；材料为PDR1A与氯仿。
4：实验流程与操作步骤：
通过特定旋转序列的多重曝光制备不同光栅图案，利用AFM观测表面形貌。
5：数据分析方法：
基于AFM图像和功率谱密度（PSD）图分析旋转序列对光栅图案的影响。
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获取完整内容-
Poly (Disperse Red 1 acrylate)
PDR1A
Sigma-Aldrich
Photo-addressable azobenzene polymer used for optical patterning behavior by holographic lithography.
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UV-Visible spectrophotometer
UV-1800
SHIMADZU
Used to evaluate light absorption property.
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Diode-pumped solid-state green laser
Used for two-beam coupling light interference lithography.
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Polarizing beam splitter
PBS
Used to split the laser beam into two beams.
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Polarizer
POL
Used to control the polarization direction and light intensity.
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Half-wave plate
HWP
Used to control the polarization direction and light intensity.
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Atomic force microscope
XE-7
Park Systems
Used to observe the resultant surface topology.
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Alpha-step
alpha-step IQ
KLA Tencor
Used to measure film thickness.
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