研究目的
开发一种制备平均粒径为65纳米、壳层厚度小于10纳米的MgO@SiO2纳米颗粒的方法,并研究合成参数对MgO@SiO2形成的影响。
研究成果
已开发出一种制备平均粒径为65纳米、壳层厚度小于10纳米的MgO@SiO2纳米颗粒的方法。合成的最佳条件包括油酸钠浓度为0.01摩尔/升、MgO与TEOS比例为1:2以及反应时间为6小时。
研究不足
以偏硅酸钠为前驱体的方法需要修正,因为该方法未能在氧化镁表面形成二氧化硅壳层。合成过程应在暴露6小时后停止,以避免二氧化硅壳层降解。
研究目的
开发一种制备平均粒径为65纳米、壳层厚度小于10纳米的MgO@SiO2纳米颗粒的方法,并研究合成参数对MgO@SiO2形成的影响。
研究成果
已开发出一种制备平均粒径为65纳米、壳层厚度小于10纳米的MgO@SiO2纳米颗粒的方法。合成的最佳条件包括油酸钠浓度为0.01摩尔/升、MgO与TEOS比例为1:2以及反应时间为6小时。
研究不足
以偏硅酸钠为前驱体的方法需要修正,因为该方法未能在氧化镁表面形成二氧化硅壳层。合成过程应在暴露6小时后停止,以避免二氧化硅壳层降解。
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