研究目的
研究摩尔浓度对喷射雾化器喷雾热解法制备的氧化铜（CuO）薄膜结构、光学、形貌及电学性能的影响。
研究成果
该研究成功证明了摩尔浓度对喷射雾化器喷雾热解法制备的CuO薄膜性能的影响。当摩尔浓度为0.3 M时，薄膜呈现出最佳性能，具有优良的结构、光学、形貌和电学特性。
研究不足
该研究聚焦于摩尔浓度对CuO薄膜性能的影响，但未探讨基底温度或退火等其他参数的作用。文中亦未讨论该方法在工业应用中的可扩展性。
1：实验设计与方法选择：
采用射流雾化热解法制备CuO薄膜，摩尔浓度分别为0.1、0.2和0.3 M。
2：2和3 M。 样品选择与数据来源：
2. 样品选择与数据来源：使用清洗后的玻璃基底进行沉积，以硝酸铜溶于双蒸水作为前驱体溶液。
3：实验设备与材料清单：
射流雾化热解系统、超声波清洗器、磁力搅拌器、X射线衍射仪（XRD，日本岛津）、表面轮廓仪（KLN tencor）、紫外-可见漫反射光谱仪（Jasco V-750）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、X射线能谱仪（EDAX）、Keithley静电计（6517-B）。
4：0）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、X射线能谱仪（EDAX）、Keithley静电计（6517-B）。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：将溶液搅拌后喷涂于加热的玻璃基底上，对薄膜的结构、光学、形貌及电学性能进行表征。
5：数据分析方法：
结构性能采用XRD分析，光学性能采用紫外-可见光谱分析，形貌性能采用FESEM和EDAX分析，电学性能采用Keithley静电计分析。
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