研究目的
研究钐（Sm）掺杂浓度对电沉积氧化亚铜（Cu2O）薄膜光电性能的影响。
研究成果
该研究成功证明了钐（Sm）掺杂对氧化亚铜（Cu?O）薄膜的结构、形貌、光学及电学性能的影响。证实了钐已掺入氧化亚铜晶格，导致晶粒尺寸、带隙和光敏性发生变化，使这些薄膜适用于光电器件应用。
研究不足
该研究仅限于探讨Sm掺杂对电沉积法制备的Cu2O薄膜的影响。关于掺杂浓度优化潜力及其对其他性能的影响仍有待探索。
1：实验设计与方法选择：
采用电沉积法制备钐掺杂氧化亚铜薄膜。实验使用三电极体系，以FTO为工作电极，铂丝为对电极，Ag/AgCl为参比电极。
2：样品选择与数据来源：
电沉积溶液由0.4 M硫酸铜（CuSO4）、3 M乳酸（C3H6O3）及不同浓度的三氯化钐（SmCl3·6H2O）组成。
3：4 M硫酸铜（CuSO4）、3 M乳酸（C3H6O3）及不同浓度的三氯化钐（SmCl3·6H2O）组成。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：XRD（XPERT SOFTWAR）用于结构分析，EVO18蔡司SEM用于形貌分析，Princeton Acton SP 2500用于拉曼光谱分析，Lambda珀金埃尔默紫外-可见-近红外分光光度计用于光学分析，触针式轮廓仪用于厚度测量，荧光光谱系统用于光致发光分析，Keithley源表2450型用于I-V特性表征。
4：实验步骤与操作流程：
在pH=13条件下，以?400 mV电位沉积30分钟制备薄膜。
5：数据分析方法：
采用谢乐公式计算结构参数，通过特定方程计算应变与位错密度，利用紫外-可见吸收光谱分析光学性能。
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SEM
EVO18 ZEISS
ZEISS
Morphological and elemental analysis
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UV–Vis–NIR spectrometer
Lambda Perkin Elmer
Perkin Elmer
Transmission spectra analysis
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Source meter
Keithley 2450
Keithley
I–V characterization
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XRD
XPERT SOFTWAR
Structural analysis of the films
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Raman spectrometer
Princeton Acton SP 2500
Princeton Acton
Raman spectrum analysis
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Stylus profilometer
Thickness measurement of the films
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Spectroflurometer system
Photoluminescence analysis
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