1：实验设计与方法选择：

采用圆柱形直流磁控溅射系统，在氧气/氩气混合气体中不同氧含量（3%、4.5%、6%、7.5%）条件下，于熔融石英和PMMA基底上沉积Al-Zn-O薄膜。该方法因具有更好的附着力、覆盖率和薄膜致密性而被选用。

2：3%、5%、6%、5%）条件下，于熔融石英和PMMA基底上沉积Al-Zn-O薄膜。该方法因具有更好的附着力、覆盖率和薄膜致密性而被选用。 样品选择与数据来源：

2. 样品选择与数据来源：基底经含洗涤剂/蒸馏水的超声浴、乙醇和丙酮依次清洗后，于氮气流中干燥。薄膜在具有圆柱对称性的基底上同步沉积。

3：实验设备与材料清单：

设备包括圆柱形直流磁控溅射系统、能量色散X射线光谱仪（EDS，VEGA\TESCAN-LMU）、扫描电子显微镜（SEM，KYKY-EM3200）、原子力显微镜（AFM，Park Scientific Instrument）及双光束分光光度计（Cary 500 UV-Vis-NIR）。材料包含熔融石英和PMMA基底、锌圆筒（纯度99.99%）、铝丝（纯度99.9%）、氧气和氩气。

4：0）、原子力显微镜（AFM，Park Scientific Instrument）及双光束分光光度计（Cary 500 UV-Vis-NIR）。材料包含熔融石英和PMMA基底、锌圆筒（纯度99%）、铝丝（纯度9%）、氧气和氩气。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：腔室抽至3.2×10^-3 N/m2本底压强后，通过气体混合达到2.9 N/m2沉积压强。在室温下以恒定200 mA直流电流及变化电压（369-463 V）进行165秒沉积。沉积后采用EDS（镀金样品）、SEM测量厚度、AFM分析形貌、分光光度计测定光学性能。

5：2×10^-3 N/m2本底压强后，通过气体混合达到9 N/m2沉积压强。在室温下以恒定200 mA直流电流及变化电压（369-463 V）进行165秒沉积。沉积后采用EDS（镀金样品）、SEM测量厚度、AFM分析形貌、分光光度计测定光学性能。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：化学成分由EDS光谱确定，厚度通过截面SEM图像获取，形貌特征源自AFM图像，光学性能（透过率、带隙）依据UV-Vis分光光度计数据，采用Tauc图计算直接带隙。