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Enhanced photovoltaic efficiency and persisted photoresponse switchability in LaVO3/Pb(Zr0.2Ti0.8)O3 perovskite heterostructures

DOI:10.1039/C9TC04384E 期刊:Journal of Materials Chemistry C 出版年份:2019 更新时间:2025-09-11 14:15:04
摘要: For the ferroelectric photovoltaics, it is challenging to enhance the power conversion efficiency (PCE) without sacrificing the photoresponse switchability. Here, we demonstrate that enhanced PCE and good photoresponse switchability can be simultaneously achieved in perovskite heterostructures comprising narrow-gap semiconductor LaVO3 (LVO) and ferroelectric Pb(Zr0.2Ti0.8)O3 (PZT). The LVO(24 nm)/PZT(120 nm) based device exhibits a ~5-fold enhancement in PCE compared with the PZT-only based device, which is attributed to the enhanced absorption from the LVO layer and the built-in field at the LVO/PZT interface facilitating the separation of photo-generated e-h pairs. In addition, the switched photovoltage of the LVO/PZT based device is above 1 V, which is as large as that of the PZT-only based device. This persisted photoresponse switchability is obtained because the polarization can be fully switched in the LVO/PZT based devices when the LVO thickness is less than 24 nm. Our finding therefore provides a promising route for the development of the high-efficiency and highly switchable ferroelectric photovoltaic devices.
作者: Shengliang Cheng,Zhen Fan,Lei Zhao,Haizhong Guo,Dongfeng Zheng,Zoufei Chen,Min Guo,Yue Jiang,Sujuan Wu,Zhang Zhang,Jinwei Gao,Xubing Lu,Guofu Zhou,Xingsen Gao,Jun-Ming Liu
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To achieve simultaneously high power conversion efficiency (PCE) and good photoresponse switchability in ferroelectric photovoltaic (FEPV) devices by integrating narrow-gap semiconductor LaVO3 (LVO) with ferroelectric Pb(Zr0.2Ti0.8)O3 (PZT).

The integration of narrow-gap semiconductor LVO with ferroelectric PZT in perovskite heterostructures enables simultaneous enhancement of PCE and maintenance of good photoresponse switchability, offering a promising approach for high-efficiency and highly switchable FEPV devices.

The achieved highest PCE (~0.01%) is still low, indicating room for improvement in semiconductor layer absorption and photoresponsivity, ferroelectric layer bandgap, and SEM/FE interface quality.

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