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银金属辅助化学刻蚀制备的n型硅纳米线：制备与光学特性
摘要： 本文报道了采用银（Ag）金属辅助化学刻蚀（MACE）法制备硅纳米线（SiNWs）的研究。选用掺磷电阻率为1÷10 Ω×cm的n型Si（100）晶圆进行样品制备。将硅晶圆浸入4.6 M氢氟酸（HF）和硝酸银（AgNO3）溶液中（浓度变化范围15-35 mM），使直径约30 nm的银颗粒作为催化金属在晶圆表面聚集1分钟。随后，覆盖银颗粒的硅晶圆在4.8 M HF与0.4 M过氧化氢（H2O2）混合溶液中进行刻蚀以形成垂直排列的硅纳米线。研究发现：随着AgNO3浓度增加，硅纳米线的尺寸和密度逐渐减?。痪?0-40分钟的延迟期后，硅纳米线生长与刻蚀时间呈线性关系。室温下观测到制备的硅纳米线具有两个清晰发光带，分别位于450 nm（~2.75 eV）和700 nm（~1.77 eV）附近。文中对这两个发光带的起源及对比特性进行了阐述与讨论。
关键词： 化学蚀刻，硅纳米线，光致发光，金属辅助
更新于2025-09-23 15:21:01
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高分辨率有源矩阵有机发光二极管显示器用精细金属掩模材料及制造工艺
摘要： 制造精细金属掩模（FMM）是实现智能手机和增强现实（AR）设备超高清（UHD）级AMOLED显示屏的最大挑战之一。我们已开发出最先进的材料与加工技术，可制造800ppi或更高分辨率的FMM。通过因瓦合金薄化技术和无热损伤激光蚀刻工艺，我们成功实现了适用于超高清显示屏的FMM。
关键词： 超高清（UHD）、激光图案化、增强现实（AR）、电铸、化学蚀刻、因瓦合金、精细金属掩模（FMM）
更新于2025-09-23 15:19:57
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通过时间整形飞秒脉冲控制熔融石英激光加工中的光子能量沉积效率：实验与理论研究
摘要： 光子能量沉积在飞秒激光辐照结合化学蚀刻的微纳结构加工工艺中起着关键作用，该技术是实现熔融石英微纳结构精准调控的新兴方法。本研究通过时域整形飞秒激光脉冲串实验与理论相结合，系统研究了熔融石英激光辐照过程中可控的光子能量沉积机制。实验结果表明：通过调节整形脉冲串的总能量密度，既可降低也可增强光子能量沉积效率。研究进一步揭示了时域整形脉冲串的子脉冲间隔与强度比对光子能量沉积具有决定性影响?；谧杂傻缱硬碳捌涠怨庾幽芰砍粱蠢⌒вΦ牡壤胱犹迥Ｐ?，从定性角度合理阐释了相应的实验现象。
关键词： 光子能量沉积，飞秒激光，时间整形脉冲，化学蚀刻，熔融石英
更新于2025-09-23 15:19:57
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用于高效激光束匀化的随机微透镜阵列制备
摘要： 微型化集成的微透镜阵列（MLA）能有效实现激光系统的光束匀化、紧凑化与小型化。当采用MLA对高相干性激光光束进行匀化时，由于MLA的周期性结构，匀化光斑中会出现干涉条纹，严重影响匀化光斑的均匀性。为解决该问题，本文提出一种新型随机微透镜阵列（rMLA）结构以实现光束匀化，通过打破MLA的周期性来抑制匀化过程中的相干性，从而获得高能量利用率的匀化光斑。在制备工艺上，采用化学蚀刻与光刻技术相结合的巧妙方法，分别制备了蜂窝状rMLA和矩形rMLA。实验结果表明：两种rMLA的能量利用率均约达90%，其中蜂窝状rMLA与矩形rMLA产生的匀化光斑均匀性分别超过80%和85%，同时可实现完全经济高效的制备。
关键词： 随机微透镜阵列、光束匀化、激光、化学蚀刻
更新于2025-09-23 15:19:57
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27.2: <i>特邀论文：</i> 面向AMOLED显示器的高分辨率FMM工艺
摘要： 精细金属掩模（FMM）是实现智能手机和虚拟现实（VR）高分辨率AMOLED显示屏的最大障碍之一。本文讨论了用于高分辨率FMM的各种材料和加工技术。
关键词： 因瓦合金、化学蚀刻、虚拟现实（VR）、电铸、激光图案化、精细金属掩模（FMM）、超高清（UHD）、有源矩阵有机发光二极管（AMOLED）
更新于2025-09-19 17:13:59
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使用锥形光纤尖端对离体绵羊食道进行浅表光热激光消融（SPLA）
摘要： 浅表光热激光消融术（SPLA）可能是一种有效的治疗手段，其产生的损伤深度足以消除黏膜病变，但不会过深而对深层组织产生热效应。本初步研究目的有二：一是描述能输送高度聚焦激光束的光纤探针设计步骤（包括基于蒙特卡罗模拟的计算），二是完成该探针在离体绵羊食管模型中的初期测试。通过化学蚀刻光纤获得锥形（渐缩）光纤尖端，采用功率可达500毫瓦的1505纳米连续波二极管激光器。实验证实该探针能通过不同速度-功率组合实现绵羊黏膜层的有效SPLA消融，包括以0.5毫米/秒表面扫描速率施加300毫瓦激光功率，以及以2.0毫米/秒表面扫描速率施加450毫瓦激光功率。经进一步改进后，该探针或可用于内镜下低功率光热激光黏膜层消融治疗。
关键词： 光热消融、化学蚀刻、光纤探针、黏膜、蒙特卡罗
更新于2025-09-16 10:30:52
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通过银辅助化学蚀刻制备的低反射率分级纹理硅，有望应用于太阳能电池
摘要： 本研究报道了在微纹理硅基底上制备硅纳米线的方法。采用银辅助无电化学蚀刻工艺制备纳米线，并通过扫描电子显微镜研究了氢氟酸浓度对形成动力学的影响。这种分级二元结构能将宽光谱范围（300-1100 nm）的太阳加权反射率（SWR）从抛光硅的无涂层状态（38%）降至<3%。实现如此低的反射率仅需<1 μm长度的纳米线。研究发现，在较低氢氟酸浓度下，纳米线优先沿<100>晶向生长；而随着浓度升高，在相同尺寸的微金字塔上同时发生<100>和非<100>（如<111>）晶向的蚀刻，最终形成三维微金字塔表面带有倾斜硅纳米线的二元结构。
关键词： 纳米线、微金字塔、化学蚀刻、反射率、硅纳米线
更新于2025-09-12 10:27:22
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通过F2激光辐照实现聚碳酸酯上铝薄膜的无阻抗图案化方法
摘要： 近年来，聚碳酸酯作为一种轻质高强度的智能窗材料备受关注。本文报道了一种通过157纳米F2激光辐照，在硅酮硬涂层聚碳酸酯上实现铝薄膜无掩模图案化的方法。将光掩模置于聚碳酸酯上的铝薄膜表面，经F2激光照射后，未辐照区域通过氢氧化钾水溶液去除。XPS测量分析表明该方法机理为：F2激光辐照使铝薄膜表面改性生成Al2O3，该氧化层可阻止化学蚀刻。对铝薄膜下方聚碳酸酯表面的ATR-FTIR和XPS检测显示，即便存在铝薄膜，F2激光仍会氧化聚碳酸酯的硅酮硬涂层，并可能在铝与硅酮硬涂层界面形成Al-O-Si化学键。铝薄膜表面生成的Al2O3及铝/硅酮硬涂层界面的Al-O-Si键，有望赋予硅酮硬涂层聚碳酸酯上铝薄膜优异的耐磨性和强附着力。这种铝薄膜图案化制备方法有助于智能聚碳酸酯窗用电极的制造。
关键词： 表面改性、金属薄膜、真空紫外激光、图案化、化学蚀刻
更新于2025-09-12 10:27:22
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熔融石英三维微加工中超快激光参数的优化
摘要： 我们针对熔融石英的三维微加工开展了一项激光参数优化研究，通过超快激光直写辅助化学蚀刻技术，旨在实现高表面质量、高产量生产及复杂曲面等实际应用关键目标。实验采用1030nm波长、最高2MHz重复频率，测试了300飞秒与1皮秒两种脉冲宽度、0.1-1.6微焦耳脉冲能量范围、三种偏振态（圆偏振/平行偏振/垂直偏振）以及3至10,000次脉冲重叠数量对1毫米厚熔融石英纳米光栅及一维/二维选择性蚀刻的影响。在一种配置下，经80微米高斯滤波后获得21.8纳米均方根表面粗糙度；另一种配置中，在保证1平方毫米区域（覆盖玻璃厚度）表面粗糙度小于400纳米（滤波后均方根值）的前提下，测得2MHz重复频率下的最大加工速度可达1.25米/秒。
关键词： 3D微加工、直写技术、粗糙度、化学蚀刻、选择性、超快激光
更新于2025-09-11 14:15:04
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通过化学蚀刻减小半球形谐振器的频率分裂
摘要： 半球谐振陀螺仪（HRG）因其卓越的性能、超高的可靠性以及可微型化的潜力，引起了全球惯性导航领域的关注。这类器件在消除两个简并工作模式的频率差时性能最佳?；荡?、激光烧蚀、离子束刻蚀等方法虽已被用于谐振器调频，但它们要么需要昂贵设备和复杂流程，要么会显著改变谐振器的品质因数。本文首次通过实验研究了采用化学刻蚀工艺降低半球谐振器频率分裂的方法。我们不仅对化学刻蚀过程进行了理论分析，还阐明了频率分裂与质量误差的关系。实验证明，该化学刻蚀工艺可将频率分裂降至0.05赫兹以下，且不会损伤谐振器的品质因数。与其他调频方法相比，该化学刻蚀方案实施便捷，耗时少、人力投入低，可作为获得中等精度半球谐振陀螺仪的有效微调手段。
关键词： 化学蚀刻、频率分裂、半球形谐振器
更新于2025-09-10 09:29:36