研究目的
研究用于增强现实(AR)应用的高像素密度(ppi)单色蓝光微发光二极管(Micro-LED)阵列的制备与性能。
研究成果
这款8微米尺寸的LED可在20毫安电流下驱动,表明其电流密度甚至远超高功率照明应用中的LED器件。在-5V偏压下的漏电流低于10皮安,满足显示应用要求。由于电流效率变化范围较大,数字驱动模式可能是Micro-LED显示屏的适宜驱动方式。
研究不足
LED制造工艺受光刻精度限制,难以满足小于10微米的LED芯片制造要求。当前微LED阵列的效率存在较大波动范围,在显示应用中需要驱动IC进行复杂运算。
1:实验设计与方法选择:
本研究聚焦于在硅和蓝宝石衬底上制备InGaN/GaN蓝色微LED阵列,采用尼康NSR-1505i7A步进光刻系统提升图形化精度。通过SET FC150设备完成倒装焊工艺并进行I-V-L测试。
2:样品选择与数据来源:
硅基和图形化蓝宝石衬底上的InGaN/GaN蓝色LED晶圆购自商业供应商。
3:实验设备与材料清单:
尼康NSR-1505i7A步进光刻系统、SET FC150倒装焊系统、盐酸溶液、丙酮、ITO接触层、p/n金属层、二氧化硅层、焊接材料。
4:实验流程与操作步骤:
对晶圆进行清洗,通过光刻和ICP刻蚀定义台面图形,沉积ITO接触层,形成p/n电极,沉积二氧化硅层,开设通孔并覆盖焊接材料。
5:数据分析方法:
通过探针台获取正反向偏压下的I-V曲线,对键合样品进行I-V-L测试。
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容