研究目的
研究氧退火对透明显示器中HfIZO薄膜晶体管器件性能的恢复作用。
研究成果
氧退火通过降低与氧空位相关的界面态密度,显著提升了非晶HfIZO薄膜晶体管的器件性能和光致稳定性。该方法增强了器件间及批次间的均匀性,使其在大面积透明显示领域具有应用前景。
研究不足
该研究仅限于氧退火对非晶HfIZO薄膜晶体管的影响,未探讨其他后处理方法或材料。
研究目的
研究氧退火对透明显示器中HfIZO薄膜晶体管器件性能的恢复作用。
研究成果
氧退火通过降低与氧空位相关的界面态密度,显著提升了非晶HfIZO薄膜晶体管的器件性能和光致稳定性。该方法增强了器件间及批次间的均匀性,使其在大面积透明显示领域具有应用前景。
研究不足
该研究仅限于氧退火对非晶HfIZO薄膜晶体管的影响,未探讨其他后处理方法或材料。
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